氟化鎂(MgF2) 是一種四方正雙折射晶體。與CaF2相比,MgF2具有良好的化學(xué)、機械和熱學(xué)特性。由于其高真空紫外透射率和高損傷閾值,MgF2通常用于真空紫外和準分子激光窗口、偏振器、透鏡等。
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MgF2 Material產(chǎn)品產(chǎn)地 :
FuZhou特性:
| 傳輸范圍: | 120nm~7000nm |
| 熱膨脹系數: | ||a=13.7x10-6/K,||c=8.48x10-6/K |
| 密度: | 3.17g/cm3 |
| 熱導率: | 0.0075W/m/K |
| 折射率: | @405nmo=1.3836,ne=1.3957 |
規格:
| 直徑公差: | +0.0, -0.1mm |
| 厚度公差 | ±0.2mm |
| 通光孔徑: | >80%(小尺寸);>90%(大尺寸) |
| 平行度: | <1′(通用); <10 ″(高精度) |
| 光潔度: | 80/50(通用);40/20(高精度) |
| 面型: | λ/2(一般); λ/8(高精度) |
| 鍍膜: | 根據要求提供涂層 |
為什么選擇氟化鎂(MgF2)材料?
氟化鎂(MgF?)是一種單晶材料,以其卓越的光學(xué)性能而聞名,其低折射率和寬波段透射性使其在光學(xué)鍍膜和精密光學(xué)元件中應用廣泛。MgF? 的晶體結構使其在紫外(150nm)至中紅外(8μm)波段具有高透射率,在深紫外波段具有極低的吸收損耗,同時(shí)還具有優(yōu)異的化學(xué)穩定性和耐候性,可在潮濕或腐蝕性環(huán)境中保持光學(xué)性能。MgF? 具有低熱膨脹性和高激光損傷閾值,不僅被廣泛用作抗反射(AR)鍍膜的核心材料以最大限度地減少表面反射,還可加工成紫外透鏡、光學(xué)窗口片和棱鏡。MgF? 廣泛應用于紫外光刻系統、激光光譜儀和紅外成像設備,尤其適用于需要低反射率和寬波段透射率的精密光學(xué)裝置。